h1_key

當(dāng)前位置:首頁(yè) >新聞資訊 > 產(chǎn)品資訊>三星>三星半導(dǎo)體K4RHE086VB-BCWM:面向高密度存儲(chǔ)的DDR5內(nèi)存解決方案
三星半導(dǎo)體K4RHE086VB-BCWM:面向高密度存儲(chǔ)的DDR5內(nèi)存解決方案
2025-07-08 373次


一、技術(shù)規(guī)格與架構(gòu)設(shè)計(jì)

 

三星半導(dǎo)體K4RHE086VB-BCWM是一款專為高密度存儲(chǔ)場(chǎng)景設(shè)計(jì)的DDR5 DRAM內(nèi)存顆粒,其核心參數(shù)如下:

 

容量與組織形式:采用24Gb3GB)單顆容量設(shè)計(jì),組織形式為3072M×8bit,通過8顆顆粒組合可構(gòu)成24GB單條內(nèi)存模組。這種設(shè)計(jì)兼顧了大容量與并行數(shù)據(jù)傳輸能力,適用于服務(wù)器、AI計(jì)算等需要處理海量數(shù)據(jù)的場(chǎng)景。

 

傳輸速度與能效:支持5600Mbps的傳輸速率,較DDR4提升超過一倍。工作電壓為1.1V,功耗較DDR4降低約30%,尤其適合數(shù)據(jù)中心等對(duì)能效敏感的環(huán)境。

 

封裝與接口:采用96FBGA封裝,尺寸緊湊且電氣性能優(yōu)異。模塊符合DDR5標(biāo)準(zhǔn)接口規(guī)范,兼容主流服務(wù)器和高端工作站平臺(tái)。

 

時(shí)序參數(shù):典型時(shí)序?yàn)?/span>CL46-46-46-90,在高頻運(yùn)行下仍能保持穩(wěn)定性,適合對(duì)延遲敏感的應(yīng)用。

 

二、核心技術(shù)特性

 

可靠性增強(qiáng)

 

集成ODECCOn-DieECC)技術(shù),可實(shí)時(shí)檢測(cè)并糾正單比特錯(cuò)誤,顯著提升數(shù)據(jù)傳輸?shù)姆€(wěn)定性,尤其在處理大規(guī)模數(shù)據(jù)時(shí)能減少錯(cuò)誤率,確保關(guān)鍵業(yè)務(wù)的連續(xù)性。此外,模塊支持0~85°C的寬溫度范圍,適應(yīng)工業(yè)級(jí)環(huán)境需求。

 

電源管理優(yōu)化

 

采用PMIC(電源管理芯片)集成設(shè)計(jì),將電源管理功能整合至內(nèi)存模塊,優(yōu)化電壓穩(wěn)定性,減少對(duì)主板供電設(shè)計(jì)的依賴。例如,金百達(dá)等廠商采用瑞薩P8911PMIC方案,實(shí)現(xiàn)高效的電壓轉(zhuǎn)換與分配。

 

架構(gòu)創(chuàng)新

 

雖然未采用三星最新的對(duì)稱馬賽克架構(gòu)(該架構(gòu)主要針對(duì)32Gb顆粒),但K4RHE086VB-BCWM通過優(yōu)化存儲(chǔ)體布局和信號(hào)路徑,實(shí)現(xiàn)了高密度與高性能的平衡。其雙32位子通道設(shè)計(jì)理論帶寬較DDR4提升一倍,同時(shí)降低了系統(tǒng)延遲。

 

三、應(yīng)用領(lǐng)域與市場(chǎng)定位

 

企業(yè)級(jí)服務(wù)器與云計(jì)算

 

24GB單條容量支持多租戶環(huán)境下的高效資源分配,滿足云計(jì)算、虛擬化等場(chǎng)景對(duì)內(nèi)存帶寬和穩(wěn)定性的嚴(yán)苛要求。例如,在AI訓(xùn)練集群中,該顆粒可加速模型推理與數(shù)據(jù)處理。

 

邊緣計(jì)算與5G通信

 

低延遲和高并發(fā)處理能力使其適用于5G基站和邊緣計(jì)算節(jié)點(diǎn),支撐物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備的實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)交互與分析。

 

消費(fèi)級(jí)高性能PC

 

光威、金百達(dá)等廠商已推出基于該顆粒的24GBDDR5內(nèi)存條,適用于游戲主機(jī)、內(nèi)容創(chuàng)作工作站等對(duì)內(nèi)存容量和頻率有較高要求的場(chǎng)景。例如,金百達(dá)DDR5560016G*2采用類似顆粒,在超頻至6000Mbps時(shí)仍能穩(wěn)定運(yùn)行。

 

移動(dòng)設(shè)備與迷你主機(jī)

 

由于采用低功耗設(shè)計(jì),該顆粒也被用于筆記本電腦和迷你主機(jī),如華碩PN64迷你主機(jī)通過升級(jí)該顆粒內(nèi)存,核顯性能提升約31.4%

 

四、性能表現(xiàn)與市場(chǎng)反饋

 

基準(zhǔn)測(cè)試

 

AIDA64測(cè)試中,搭載K4RHE086VB-BCWM的雙通道24GB內(nèi)存模組讀取速度可達(dá)65394MB/s,寫入速度65222MB/s,拷貝速度61076MB/s,延遲約97.4ns,較DDR4有顯著提升。

 

超頻潛力

 

盡管該顆粒主打穩(wěn)定與大容量,但其體質(zhì)仍具備一定超頻空間。在1.25V電壓下,可穩(wěn)定運(yùn)行于6000Mbps,時(shí)序調(diào)整至CL42-40-40-77;部分體質(zhì)較好的顆粒甚至可達(dá)到6200Mbps

 

兼容性與穩(wěn)定性

 

Intel平臺(tái)上表現(xiàn)良好,而在AMD平臺(tái)需適當(dāng)調(diào)整電壓(如1.3V)以確保穩(wěn)定性。部分主板需更新BIOS以支持該顆粒。

 

五、行業(yè)意義與產(chǎn)品狀態(tài)

 

作為三星DDR5產(chǎn)品線的重要成員,K4RHE086VB-BCWM通過高密度設(shè)計(jì)和能效優(yōu)化,推動(dòng)了內(nèi)存技術(shù)在企業(yè)級(jí)和消費(fèi)級(jí)市場(chǎng)的普及。目前該顆粒已進(jìn)入量產(chǎn)階段,廣泛應(yīng)用于服務(wù)器、PC及移動(dòng)設(shè)備領(lǐng)域。其低成本與大容量特性,為AI、大數(shù)據(jù)等新興技術(shù)提供了堅(jiān)實(shí)的存儲(chǔ)基礎(chǔ)。

  • 三星半導(dǎo)體 K4B1G0846I-BCMA 參數(shù)應(yīng)用詳解
  • 在半導(dǎo)體領(lǐng)域,三星半導(dǎo)體 K4B1G0846I-BCMA 作為一款 DDR3 內(nèi)存芯片,曾憑借其獨(dú)特的性能與參數(shù),在眾多電子產(chǎn)品中扮演著重要角色。盡管如今半導(dǎo)體技術(shù)日新月異,新產(chǎn)品層出不窮,但回顧這款經(jīng)典芯片,能讓我們更好地理解 DDR3 時(shí)代的技術(shù)特點(diǎn)與應(yīng)用脈絡(luò)。
    2025-08-15 16次
  • 三星半導(dǎo)體 K4B1G0846I-BCK0:DDR3 時(shí)代的經(jīng)典芯片
  • 在半導(dǎo)體發(fā)展的長(zhǎng)河中,三星半導(dǎo)體 K4B1G0846I-BCK0 作為一款 DDR3 內(nèi)存芯片,曾憑借其獨(dú)特的性能與技術(shù),在眾多電子產(chǎn)品中留下深刻印記。盡管如今它已停產(chǎn),但回顧其特性,仍能讓我們洞察當(dāng)時(shí)半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展脈絡(luò)。
    2025-08-15 23次
  • 三星半導(dǎo)體 K4ABG165WB-MCWE:高性能 DDR4 內(nèi)存芯片簡(jiǎn)介
  • K4ABG165WB-MCWE 擁有 32Gb 的大容量,采用 2G x 16 的組織形式,為數(shù)據(jù)的高效存儲(chǔ)提供了充足空間。其數(shù)據(jù)傳輸率高達(dá) 3200Mbps,這一速度使其在數(shù)據(jù)處理時(shí)極為高效,能夠快速讀取和寫入大量數(shù)據(jù),極大提升了系統(tǒng)的響應(yīng)速度。工作電壓僅 1.2V,低電壓設(shè)計(jì)有效降低了芯片的能耗
    2025-08-15 49次
  • 三星半導(dǎo)體 K4ABG165WA-MCWE:高性能內(nèi)存芯片解析
  • K4ABG165WA-MCWE 擁有令人矚目的技術(shù)規(guī)格。其存儲(chǔ)容量高達(dá) 16Gb,采用 1G x 16 的組織形式,這種布局為數(shù)據(jù)的高效存儲(chǔ)與傳輸?shù)於嘶A(chǔ)。在數(shù)據(jù)傳輸速度方面,它支持 2666Mbps 的數(shù)據(jù)傳輸率,能夠以極高的速率讀取和寫入數(shù)據(jù),極大地提升了數(shù)據(jù)處理效率。工作電壓僅需 1.2V,這不僅降低了芯片的能耗,還減少了設(shè)備的整體功耗,符合當(dāng)下綠色節(jié)能的發(fā)展理念。
    2025-08-15 37次
  • 三星半導(dǎo)體 K4ABG165WA-MCTD 開發(fā)應(yīng)用解析
  • K4ABG165WA-MCTD 在制程工藝上有極高要求。其采用先進(jìn)的制程技術(shù),例如可能運(yùn)用類似 32nm 或更先進(jìn)的工藝節(jié)點(diǎn)。在開發(fā)過程中,要嚴(yán)格控制光刻、蝕刻等關(guān)鍵環(huán)節(jié)的精度。光刻工藝決定了芯片內(nèi)部電路的最小特征尺寸,稍有偏差就可能導(dǎo)致電路短路或斷路等問題。
    2025-08-15 28次

    萬聯(lián)芯微信公眾號(hào)

    元器件現(xiàn)貨+BOM配單+PCBA制造平臺(tái)
    關(guān)注公眾號(hào),優(yōu)惠活動(dòng)早知道!
    10s
    溫馨提示:
    訂單商品問題請(qǐng)移至我的售后服務(wù)提交售后申請(qǐng),其他需投訴問題可移至我的投訴提交,我們將在第一時(shí)間給您答復(fù)
    返回頂部